真空鍍膜設(shè)備數(shù)控加工(真空鍍膜操作工)

真空鍍膜設(shè)備數(shù)控加工（真空鍍膜操作工）詳解

一、設(shè)備型號(hào)詳解

真空鍍膜設(shè)備是一種利用真空環(huán)境下的物理或化學(xué)方法，將金屬、合金、氧化物、有機(jī)物等材料沉積在基材表面形成薄膜的設(shè)備。以下是幾種常見(jiàn)的真空鍍膜設(shè)備型號(hào)及其詳解：

1. SCS-560型真空鍍膜機(jī)

SCS-560型真空鍍膜機(jī)是一種中小型真空鍍膜設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)。該設(shè)備具有以下特點(diǎn)：

（1）真空度：10^-3～10^-6Pa；

（2）最大處理尺寸：600mm×600mm；

（3）鍍膜方式：磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜；

（4）控制系統(tǒng)：PLC可編程邏輯控制器；

（5）電源：三相交流電源。

2. SCS-1000型真空鍍膜機(jī)

SCS-1000型真空鍍膜機(jī)是一種大型真空鍍膜設(shè)備，適用于大規(guī)模生產(chǎn)。該設(shè)備具有以下特點(diǎn)：

（1）真空度：10^-3～10^-6Pa；

（2）最大處理尺寸：1000mm×1000mm；

（3）鍍膜方式：磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜；

（4）控制系統(tǒng)：工控機(jī)；

（5）電源：三相交流電源。

3. SCS-2000型真空鍍膜機(jī)

SCS-2000型真空鍍膜機(jī)是一種超大型真空鍍膜設(shè)備，適用于大尺寸基材的鍍膜。該設(shè)備具有以下特點(diǎn)：

（1）真空度：10^-3～10^-6Pa；

（2）最大處理尺寸：2000mm×2000mm；

（3）鍍膜方式：磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜；

（4）控制系統(tǒng)：工控機(jī)；

（5）電源：三相交流電源。

二、真空鍍膜操作工操作步驟

1. 設(shè)備預(yù)熱

將真空鍍膜機(jī)預(yù)熱至工作溫度，一般為150℃～300℃。預(yù)熱過(guò)程中，注意觀察設(shè)備運(yùn)行情況，確保設(shè)備正常。

2. 真空度調(diào)節(jié)

根據(jù)鍍膜材料和工作要求，調(diào)節(jié)真空度至10^-3～10^-6Pa。調(diào)節(jié)過(guò)程中，注意觀察真空計(jì)讀數(shù)，確保真空度達(dá)到要求。

3. 材料準(zhǔn)備

將待鍍膜材料放置在蒸發(fā)舟或靶材上，確保材料表面清潔、無(wú)油污。

4. 鍍膜過(guò)程

開(kāi)啟磁控濺射或蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)，開(kāi)始鍍膜。鍍膜過(guò)程中，注意觀察膜厚、膜色等參數(shù)，確保鍍膜質(zhì)量。

5. 鍍膜結(jié)束

鍍膜完成后，關(guān)閉磁控濺射或蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)，逐漸降低真空度，使設(shè)備恢復(fù)至大氣壓。取出鍍膜基材，檢查鍍膜質(zhì)量。

三、案例分析

1. 案例一：某客戶(hù)使用SCS-560型真空鍍膜機(jī)鍍制光學(xué)薄膜，發(fā)現(xiàn)膜厚不穩(wěn)定，膜色不均勻。

分析：可能是設(shè)備真空度不穩(wěn)定，或者蒸發(fā)舟與靶材距離不合適。解決方法：檢查真空系統(tǒng)，確保真空度穩(wěn)定；調(diào)整蒸發(fā)舟與靶材距離，使膜厚均勻。

2. 案例二：某客戶(hù)使用SCS-1000型真空鍍膜機(jī)鍍制金屬薄膜，發(fā)現(xiàn)膜層存在裂紋。

分析：可能是鍍膜過(guò)程中溫度過(guò)高，導(dǎo)致膜層應(yīng)力過(guò)大。解決方法：降低鍍膜溫度，減少膜層應(yīng)力。

3. 案例三：某客戶(hù)使用SCS-2000型真空鍍膜機(jī)鍍制陶瓷薄膜，發(fā)現(xiàn)膜層存在氣泡。

分析：可能是鍍膜過(guò)程中氣體未排凈，導(dǎo)致氣泡產(chǎn)生。解決方法：加強(qiáng)真空系統(tǒng)密封，確保鍍膜過(guò)程中氣體排凈。

4. 案例四：某客戶(hù)使用SCS-560型真空鍍膜機(jī)鍍制有機(jī)薄膜，發(fā)現(xiàn)膜層存在劃痕。

分析：可能是鍍膜過(guò)程中操作不當(dāng)，導(dǎo)致劃痕產(chǎn)生。解決方法：加強(qiáng)操作人員培訓(xùn)，提高操作技能。

5. 案例五：某客戶(hù)使用SCS-1000型真空鍍膜機(jī)鍍制合金薄膜，發(fā)現(xiàn)膜層存在顏色偏差。

分析：可能是鍍膜材料純度不高，導(dǎo)致顏色偏差。解決方法：選用高純度鍍膜材料，提高膜層質(zhì)量。

四、常見(jiàn)問(wèn)題問(wèn)答

1. 問(wèn)答一：真空鍍膜設(shè)備的工作原理是什么？

答：真空鍍膜設(shè)備利用真空環(huán)境下的物理或化學(xué)方法，將材料沉積在基材表面形成薄膜。

2. 問(wèn)答二：真空鍍膜設(shè)備有哪些類(lèi)型？

答：真空鍍膜設(shè)備主要有磁控濺射鍍膜機(jī)、蒸發(fā)鍍膜機(jī)、離子束鍍膜機(jī)等。

3. 問(wèn)答三：真空鍍膜設(shè)備操作過(guò)程中應(yīng)注意哪些事項(xiàng)？

答：操作過(guò)程中應(yīng)注意設(shè)備預(yù)熱、真空度調(diào)節(jié)、材料準(zhǔn)備、鍍膜過(guò)程、鍍膜結(jié)束等環(huán)節(jié)。

4. 問(wèn)答四：真空鍍膜設(shè)備鍍膜質(zhì)量受哪些因素影響？

答：鍍膜質(zhì)量受真空度、溫度、材料純度、蒸發(fā)舟與靶材距離等因素影響。

5. 問(wèn)答五：如何提高真空鍍膜設(shè)備鍍膜質(zhì)量？

答：提高真空度、控制溫度、選用高純度材料、調(diào)整蒸發(fā)舟與靶材距離等方法可以提高鍍膜質(zhì)量。